丁青县电工培训学校
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丁青县电工培训班文章内容：《科创板日报》8 月 3 日讯（编辑 李红晖） 据台湾《经济日报》援引日经亚洲今日报道，日本昭和电工将投资 1.5 亿美元（200 亿日元）扩建其日本及中国台湾工厂的半导体 CMP 抛光液产能，产能总增幅约为 20%，新产能预计将于明年开始陆续运营。
据悉，该产能扩充计划预计将先从明年 1 月从中国台湾的工厂开始，并于明年 7 月增产一款专用于高速研磨的浆液，该抛光液可避免芯片的损伤。另外，其日本工厂预计将在 2024 年在茨城县山崎厂现有的设施中增开生产线，2025 年则会有新厂房启用。
报道指出，受智能手机等消费电子出货量减少的影响，半导体的需求也有下降趋势，但 CMP 抛光液的需求并未有所下降。这是由于在制造 5G 手机或其他 5G 设备所需的高性能芯片时，其设备研磨次数要高于普通芯片所需，换句话说，制造一片高性能晶圆需要更多的 CMP 抛光液。
据了解，CMP 抛光液是用于研磨矽晶圆的重要材料。昭和电工表示，2019 年至今，CMP 抛光液的市场规模已涨超 10%。
据 TECHET 报告计算，2021 年全球 CMP 抛光液市场规模为 18.9 亿美元，同比增长 13%。华安证券研报数据显示，目前，全球市场规模已达 30 亿美元，我国本土化率为 30%。其中，龙头厂商安集科技的市占率已达到 4%。
天风证券认为，抛光液与抛光垫为 CMP 工艺核心耗材，我国本土化空间大。抛光液和抛光垫占 CMP 耗材细分市场的 80% 以上，是 CMP 工艺的核心消耗品，外国厂商具备先发优势，实现自主掌握 CMP 抛光材料的核心技术对于我国集成电路的产业安全有着重大的现实意义。
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